OTF-1200X 1200℃單溫區開啟式真空管式爐

是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦公司，在可控多種氣氛及真空狀態下，對金屬、非金屬及其它化合物進行燒結、熔化、分析而研制的專用設備。

主要特點

雙層殼體，配有循環風冷系統，殼體溫度<60℃。

2、內爐膛表面涂有美國進口氧化鋁涂層，可以提高加熱效率，同時延長使用壽命。
3、采用PID控制器，可以設置30段升降溫程序。
4、設有超溫及斷偶報警功能。
5、已通過CE認證。

OTF-1200X 1200℃單溫區開啟式真空管式爐技術參數

安裝條件

本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水：不需要

2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地。

3、氣：如作為CVD系統使用，客戶需自備氣源（標準帶有寶塔接頭，可自費改制成為雙卡套接頭）。

4、工作臺：尺寸600塵塵×600塵塵×700塵塵，承重100kg以上

5、通風裝置：需要。

技術參數

1、電源：AC 220V   50Hz/60Hz  2.5KW

2、石英管：外徑?50mm，內徑?44mm，長1000mm

外徑?60mm，內徑?54mm，長1000mm

                      外徑?80mm，內徑?74mm，長1000mm

外徑?100mm，內徑?94mm，長1000mm

3、加熱元件：摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲，表面涂有氧化鋯

4、加熱區域：440mm

5、工作溫度：最高1200℃（必須通入惰性氣體以防止爐管發生形變），連續工作1100℃

6、最大升降溫速率：20℃/min

7、控溫精度：±1℃

8、真空度：10-2torr（機械泵），10-5torr（分子泵）

9、泄漏率：<5mtorr/min

產物規格

尺寸：590塵塵×380塵塵×520塵塵；重量：40kg